Zm.: rozporządzenie w sprawie szczegółowych wymagań dotyczących wytwarzania i jakości materiału siewnego.

ROZPORZĄDZENIE

MINISTRA ROLNICTWA I ROZWOJU WSI ¹

z dnia 29 września 2008 r.

zmieniające rozporządzenie w sprawie szczegółowych wymagań dotyczących wytwarzania i jakości materiału siewnego

Na podstawie art. 48 ust. 8 i art. 53 ustawy z dnia 26 czerwca 2003 r. o nasiennictwie (Dz. U. z 2007 r. Nr 41, poz. 271, Nr 80, poz. 541 i Nr 191, poz. 1362) zarządza się, co następuje:

§ 1. W rozporządzeniu Ministra Rolnictwa i Rozwoju Wsi z dnia 1 lutego 2007 r. w sprawie szczegółowych wymagań dotyczących wytwarzania i jakości materiału siewnego (Dz. U. Nr 29, poz. 189, Nr 110, poz. 764 i Nr 189, poz. 1358 oraz z 2008 r. Nr 29, poz. 173) wprowadza się następujące zmiany:

1) w załączniku nr 2 do rozporządzenia w części I "Wymagania dotyczące wytwarzania materiału siewnego roślin zbożowych":

a) w ust. 4 pkt 1 otrzymuje brzmienie:

"1) plantacje nasienne roślin zbożowych, z wyłączeniem kukurydzy, zakłada się na polu, na którym w ostatnim roku poprzedzającym rok założenia ocenianej plantacji nie były uprawiane rośliny wykluczające możliwość produkcji materiału siewnego danego gatunku, w szczególności innej odmiany tego samego gatunku lub tej samej odmiany, lecz niższego stopnia kwalifikacji, z uwzględnieniem specyfiki gatunku;",

b) ust. 5 otrzymuje brzmienie:

"5. Izolacja przestrzenna¹⁾

Lp.	Wyszczególnienie		Odległość w metrach nie mniejsza niż dla plantacji
			materiału elitarnego	materiału kwalifikowanego
1	Dla odmian ustalonych żyta, obcopylnych odmian pszenżyta oraz mozgi kanaryjskiej odległość od zasiewów innych odmian tego samego gatunku, a w przypadku pszenżyta od źródeł pyłku Triticum spp. i żyta		300	250
2	Dla odmian samopylnych pszenżyta odległość od innych zasiewów pszenżyta		50	20
3	Dla pszenic odległość od zasiewów pszenicy porażonej w silnym stopniu głownią pyłkową lub śniecią cuchnącą; dla owsa odległość od zasiewów owsa porażonych w silnym stopniu głownią pyłkową owsa; dla jęczmienia odległość od zasiewów jęczmienia porażonych w silnym stopniu głownią pyłkową lub głownią zwartą jęczmienia		50	20
4	Dla jęczmienia ozimego odległość od plantacji jęczmienia ozimego o innej rzędowości		100	50
5	Dla składników żeńskich odmian mieszańcowych pszenic, samopylnego pszenżyta, jęczmienia oraz owsa odległość od zasiewów wszystkich innych odmian tego samego gatunku, które nie są zapylaczem w wytwarzaniu odmiany mieszańcowej		25
6	Dla kukurydzy odległość plantacji, na której produkuje się nasiona:
	1)	składnika rodzicielskiego, od zasiewów innej odmiany lub formy kukurydzy niż ta, której pyłkiem mają być zapylone rośliny	300
	2)	odmian mieszańcowych, od zasiewów innej odmiany lub formy kukurydzy innej niż zapylacz danego mieszańca oraz odmian ustalonych	200
7	Dla żyta mieszańcowego odległość od plantacji innych odmian lub składników rodzicielskich, tego samego składnika rodzicielskiego, którego plantacja nie zachowuje minimalnych wymagań, innych gatunków, których pyłek może doprowadzić do zapłodnienia, na której produkuje się nasiona:
	1)	z zastosowaniem męskiej sterylności	1.000	500
	2)	bez zastosowania męskiej sterylności	600	500

Objaśnienie:

¹⁾ W przypadku pszenic, owsa i jęczmienia izolację przestrzenną może stanowić pas technologiczny o szerokości nie mniejszej niż 2 m, pod warunkiem że sąsiadująca plantacja tego samego gatunku nie jest porażona organizmami, o których mowa w lp. 3 tabeli.";

2) w załączniku nr 9 do rozporządzenia w części A "Wytwarzanie elitarnego i kwalifikowanego materiału szkółkarskiego roślin sadowniczych":

a) dział I "Wymagania ogólne" otrzymuje brzmienie:

"I. Wymagania ogólne

1. Za elitarny materiał szkółkarski uważa się materiał, do którego wytwarzania użyto składników elitarnych.

2. Za kwalifikowany materiał szkółkarski uznaje się materiał, do którego wytwarzania użyto składników kwalifikowanych lub elitarnych.

3. Za materiał szkółkarski wolny od wirusów uznaje się materiał, do którego wytwarzania użyto składników wolnych od wirusów.

4. Plantacje szkółkarskie zakłada się na gruntach lub podłożach uznanych za wolne od organizmów kwarantannowych.

5. Plantacje szkółkarskie materiału elitarnego i kwalifikowanego z rodzaju Prunus, Rubus i Fragaria zakłada się na gruntach lub w podłożach uznanych za wolne od nicieni z rodzaju Longidorus spp. i Xiphinema spp. będących wektorami wirusów.",

b) w dziale IX "Plantacje mateczne i szkółki sadzonek truskawki" ust. 4 otrzymuje brzmienie:

"4. Wiek

Plantacje truskawki mogą być prowadzone przez rok.

Do produkcji sadzonek wielokoronowych w szkółkach sadzonek (zielonych, pojemnikowych, podwójnych frigo) dopuszcza się używanie sadzonek zielonych, pojemnikowych lub sadzonek frigo. Sadzonki wielokoronowe wytwarzane w szkółkach sadzonek: zielone, pojemnikowe, frigo i podwójne frigo są oceniane w stopniu kwalifikacji dla sadzonek otrzymanych po rozmnażaniu na plantacji matecznej sadzonek.

Na polu przeznaczonym do założenia plantacji lub szkółki truskawki nie mogą być uprawiane truskawki, ziemniaki, ogórki, pomidory, len, porzeczki, agrest, maliny i jeżyny co najmniej przez:

1) 4 lata przed jej założeniem;

2) 2 lata przed jej założeniem, jeżeli:

a) pole to zostanie odkażone, w roku poprzedzającym założenie plantacji lub szkółki truskawki, preparatami do dezynfekcji gleby lub

b) na polu zastosuje się przynajmniej 2 cykle uprawy na przyoranie gorczycy sarepskiej, w roku poprzedzającym założenie plantacji lub szkółki truskawki.".

§ 2. Rozporządzenie wchodzi w życie po upływie 14 dni od dnia ogłoszenia.

1 Minister Rolnictwa i Rozwoju Wsi kieruje działem administracji rządowej - rolnictwo, na podstawie § 1 ust. 2 pkt 1 rozporządzenia Prezesa Rady Ministrów z dnia 16 listopada 2007 r. w sprawie szczegółowego zakresu działania Ministra Rolnictwa i Rozwoju Wsi (Dz. U. Nr 216, poz. 1599).

• Identyfikator: Dz.U.2008.183.1136
• Rodzaj: rozporządzenie
• Tytuł: Zm.: rozporządzenie w sprawie szczegółowych wymagań dotyczących wytwarzania i jakości materiału siewnego.
• Data aktu: 2008-09-29
• Data ogłoszenia: 2008-10-16
• Data wejścia w życie: 2008-10-31