NOWOŚĆ LEX Cyberbezpieczeństwo Twoja tarcza w cyfrowym świecie!
Włącz wersję kontrastową
Zmień język strony
Włącz wersję kontrastową
Zmień język strony
Prawo.pl

Zm.: rozporządzenie w sprawie szczegółowych wymagań dotyczących wytwarzania i jakości materiału siewnego.

ROZPORZĄDZENIE
MINISTRA ROLNICTWA l ROZWOJU WSI1)
z dnia 24 września 2007 r.
zmieniające rozporządzenie w sprawie szczegółowych wymagań dotyczących wytwarzania i jakości materiału siewnego

Na podstawie art. 48 ust. 8 i art. 53 ustawy z dnia 26 czerwca 2003 r. o nasiennictwie (Dz. U. z 2007 r. Nr 41, poz. 271 i Nr 80, poz. 541) zarządza się, co następuje:
§  1.
W rozporządzeniu Ministra Rolnictwa i Rozwoju Wsi z dnia 1 lutego 2007 r. w sprawie szczegółowych wymagań dotyczących wytwarzania i jakości materiału siewnego (Dz. U. Nr 29, poz. 189 i Nr 110, poz. 764) w załączniku nr 2 w części I ust. 5 otrzymuje brzmienie:

"5. Izolacja przestrzenna1)

Lp.WyszczególnienieOdległość w metrach nie mniejsza niż dla plantacji2)
materiału elitarnegomateriału kwalifikowanego
1234
1Dla odmian ustalonych żyta, obcopylnych odmian pszenżyta oraz mozgi kanaryjskiej odległość od zasiewów innych odmian tego samego gatunku, a w przypadku pszenżyta od źródeł pyłku Triticum spp. i żyta300250
2Dla odmian samopylnych pszenżyta odległość od innych zasiewów pszenżyta5020
3Dla pszenic odległość od zasiewów pszenicy porażonej w silnym stopniu głownią pyłkową lub śniecią cuchnącą; dla owsa odległość od zasiewów owsa porażonych w silnym stopniu głownią pyłkową owsa;

dla jęczmienia odległość od zasiewów jęczmienia porażonych w silnym stopniu głownią pyłkową lub głownią zwartą jęczmienia

5020
4Dla jęczmienia ozimego odległość od plantacji jęczmienia ozimego o innej rzędowości10050
5Dla składników żeńskich odmian mieszańcowych pszenic, samopylnego pszenżyta, jęczmienia oraz owsa odległość od zasiewów od wszystkich innych odmian tego samego gatunku, które nie są zapylaczem w wytwarzaniu odmiany mieszańcowej25
6Dla kukurydzy odległość plantacji, na której produkuje się nasiona:
1) składnika rodzicielskiego, od zasiewów innej odmiany lub formy kukurydzy niż ta, której pyłkiem mają być zapylone rośliny300
2) odmian mieszańcowych, od zasiewów innej odmiany lub formy kukurydzy innej niż zapylacz danego mieszańca oraz odmian ustalonych200
7Dla żyta mieszańcowego odległość od plantacji innych odmian lub składników rodzicielskich, tego samego składnika rodzicielskiego, którego plantacja nie zachowuje minimalnych wymagań, innych gatunków, których pyłek może doprowadzić do zapłodnienia, na której produkuje się nasiona:
1) z zastosowaniem męskiej sterylności1.000500
2) bez zastosowania męskiej sterylności600500

Objaśnienia:

1) W przypadku pszenic, owsa i jęczmienia izolację przestrzenną może stanowić pas technologiczny o szerokości nie mniejszej niż 2 m, pod warunkiem że sąsiadująca plantacja tego samego gatunku nie jest porażona organizmami, o których mowa w lp. 3 tabeli.

2) W przypadku gatunków obcopylnych, jeżeli nie jest zachowana izolacja przestrzenna między plantacjami tej samej odmiany, lecz różnych stopni kwalifikacji, wszystkie plantacje należy uznać w stopniu nie wyższym niż plantacja, na której wytwarzany jest materiał siewny w najniższym stopniu, przy czym szkółki hodowlane tej samej odmiany założone w obrębie plantacji nasiennej na polu hodowcy nie stanowią źródła obcego pyłku.".

§  2.
Rozporządzenie wchodzi w życie po upływie 14 dni od dnia ogłoszenia.
______

1) Minister Rolnictwa i Rozwoju Wsi kieruje działem administracji rządowej - rolnictwo, na podstawie § 1 ust. 2 pkt 1 rozporządzenia Prezesa Rady Ministrów z dnia 18 lipca 2006 r. w sprawie szczegółowego zakresu działania Ministra Rolnictwa i Rozwoju Wsi (Dz. U. Nr 131, poz. 915 oraz z 2007 r. Nr 38, poz. 244).

Metryka aktu
Identyfikator:

Dz.U.2007.189.1358

Rodzaj:rozporządzenie
Tytuł:Zm.: rozporządzenie w sprawie szczegółowych wymagań dotyczących wytwarzania i jakości materiału siewnego.
Data aktu:2007-09-24
Data ogłoszenia:2007-10-16
Data wejścia w życie:2007-10-31